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集成电路福音!中国新式光刻机问世,成本降低,水平国际领先

2018/12/2 14:03:42

欧界报道:

中国制造是大家都相当熟悉的词,出货量大,生产效率高,成本低廉在国际享有声誉。但从全行业的利润分配来看,已有的制造恰恰是最低端的一环,而最大的利益集群依然在于品牌塑造以及根源技术,因此,近些年向来中国创造的发展深入人心。但制造业本身也值得推敲,设备是最直接的技术根源,这正是制造业的命门所在。11月29日,中国研发再次取得重大突破,又一制造行业走在了世界领先。

这是中科院开展的超分辨光刻设备研制,目前,世界上首台使用了紫外线光源实现了22纳米分辨率的光刻机正式通过验收,标志着在超分辨光刻领域已经达到国际领先。这是中科院光电所从2003年开始的科研攻关,截止到现在正式收官完成。之前,光刻分辨率极限为34纳米,深紫外光源光刻机也在进一步突破上陷入难题。


目前中科院光电所研发的光刻机利用波长更短的电磁波,将分辨率收缩到22纳米,在精度上有了更大提升。这对于集成电路制造有着最为关键的影响,加工精度提高最直接的影响到集成电路上一系列纳米级别的功能器件。包括生化传感芯片以及成像元件,对于中国的尖端制造业将产生重大影响。这也打破了荷兰ASML公司的垄断,将原本同级别光刻机高达3000万的进口成本压缩至百万到千万级别,而且技术完全自主可控,这正是这一研发成果的核心优势所在。


这对于中国自主芯片的研发也产生了有力的推导作用,目前最大的技术障碍正是处于根源的生产设备,而光刻机作为其中重要一环地位十分关键,而此次提升除了打破垄断降低成本之外,最根本的意义在于对国产尖端制造以及创造的拉动,中国在下一轮技术进步中将会有更为突出的表现。

的确,自今年年初中兴受到美国刁难之后,人们越来越清晰的认识到技术以及设备独立的重要性,而这一研发成果正是如此,长达十余年的研发终于取得突破,这是令国人都感到兴奋的技术成果。


这一根源性的制造设备提高无论是对于中国制造还是中国创造都产生巨大影响,当前人们关注最多的便是芯片制造,而光刻机的自主研发不但解决了芯片制造的一大难题,也对于相关集成电路的升级改造起到推进作用。

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